東京大学 武田先端知ビル Takeda-Sentanchi Bldg.
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AIMD-先端知機能材料デバイスラボラトリーズ-Advanced Intellectual Materials and Devices Laboratories
ー大規模集積システム設計教育研究センターVLSI Design and Education Center
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ご利用案内

施設の具体的なご利用方法をご案内しております。
ご利用についてのご案内 印刷用PDFはこちら
本事業は文部科学省先端研究施設共用イノベーション創出事業【ナノテクノロジー・ネッ トワーク】の1拠点として、ナノテクノロジー・ネットワークの運営指針に準拠して行われます。ご利用に際して以下の点にご留意ください。
ご利用頂ける方
大学・公的研究機関の方はもちろん,民間企業の方もご利用いただけます。ただし、本拠 点が有する装置とノウハウを活用し、わが国の産業技術の向上を図るという目的に合致す ることが必要です。
事業の分類
  1. 支援事業 利用者が本拠点の装置を自ら操作して加工・分析を行う「機器利用《と,本拠点のスタッ フが加工・分析を行う「加工・分析委託《があります。事業によって得られた成果につい ては、毎年度発行する成果報告書を通して公開していただきます。
  2. 自主事業 民間ユーザーなどで成果の公開を見合わせたい場合,上記支援事業とは別に本拠点の自主 事業として利用いただくことができます。ただし,自主事業では,すでに商業ベースで行 われている事業(一般的なフォトマスク作製や各種依頼分析など)と重複する支援は行い ません。大学の加工・解析ノウハウの活用が上可欠な事業を歓迎します。
  3. 共同研究 加工手法や分析手法自体の開発要素が強い場合,共同研究として開発を進めることができ ます。詳細は別途ご相談ください。
ご利用の流れ
  1. このWeb ページから,あるいは直接電話などで利用申請をしてください。 「こんなことをしたいのだが…《という漠然とした相談にも、コーディネーターが対 応し,適切な部門に取り次ぎます。
  2. 利用申請は運営委員会で審査し、本事業に適していると判断されれば,支援事業・自主事業がスタートします。各部門の担当者と日程などを相談して事業を進めていただきます。
  3. ご利用が終了いたしましたら、報告書の作成をお願いします。 報告書の雛形はこちらからダウンロードしてください。
  4. 利用にかかる実費などは,四半期ごとに請求させていただきます。

ご利用の流れ

ご利用にあたっての注意
  1. 論文などに成果を公表する際には、この支援プログラムを利用した旨(謝辞)の記載をお願いしております。
    学会での口頭発表、論文の投稿等における謝辞の例を以下に示します。
    【和文】
    「本研究(の一部)は、文部科学省の支援を受けて、東京大学「超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点《において実施されました。《
    【英文】
    「(A part of) This work was conducted in Center for Nano Lithography & Analysis, The University of Tokyo, supported by the Ministry of Education, Culture, Sports, Science and Technology (MEXT), Japan.《
  2. ご利用にあたって、施設等に持ち込んだ申請者所属機関の機密事項は、申請者所属機関の責任で管理するものとし、資料・データ等の施設等への放置等に起因する機密事項の漏洩に関しては責任を負いません。
  3. 申請者ご自身が機器を操作する機器利用支援事業にあたっては、事前に必要な講習をお願いしています。詳細はお問い合わせください。
ご利用カテゴリー表
ご利用カテゴリー表
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