東京大学 武田先端知ビル Takeda-Sentanchi Bldg.
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AIMD-先端知機能材料デバイスラボラトリーズ-Advanced Intellectual Materials and Devices Laboratories
ー大規模集積システム設計教育研究センターVLSI Design and Education Center
東京大学ーThe University of Tokyo

プロジェクト紹介

本プロジェクトの概要を紹介します。
東京大学「超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点とは (旧「ナノテクノロジー・ネットワーク」事業(2007-2012)での東京大学拠点の紹介) 運営体制 概念図
東京大学「超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点とは
(旧「ナノテクノロジー・ネットワーク」事業(2007-2012)での東京大学拠点の紹介)
東京大学では、工学系研究科総合研究機構ナノ工学センターと、大規模集積システム設計教育研究センターが密接に連携しております。
工学系研究科ナノ工学研究センターが有する超高圧電子顕微鏡は、世界最高分解能を有する超高圧電子顕微鏡であり、 0.1nm 以下の分解能におけるナノマテリアルの解析や酸素、窒素、酸素など軽元素の直接観察を行うことが可能です。観察技術および解析技術は極めて高く、国際的に権威の高い学術雑誌に多くの成果を発表しています。これまでは主に学内の研究グループに対して観察支援を行ってきましたが、本プロジェクトにより学外の皆様にも本解析ファシリティーをお使いいただけるよう、研究支援体制を整えています。
一方、東京大学大規模集積システム設計教育研究センター (VDEC)は、10 年以上にわたり可変成型ビームによる大規模高速電子線描画装置を全国の大学・高専に共同利用に供してきた実績をもっています。本装置は、最大8インチウエハまでの各種サイズ・形状の基板に対応し、可変整形ビーム方式により平均描画時間1時間未満という高スループットを達成しています。描画条件にもよりますが、数十nmの微細パターンを描画することができます。
すでに学内外から年間 1000 件近くの利用があり、マイクロマシン分野で最も権威のある国際会議「MEMS《において、近年日本からの口頭発表(採択率 5%)のうち 90%が VDEC の電子線描画装置を利用しているなど、すでにわが国の大学・高専における研究開発に多大な貢献を行っています。本プロジェクトにより、技術員の増強による依頼描画サービスを開始するなど、学外の初心利用者にも開かれたリソグラフィー支援体制を構築します。
本描画装置は、クラス1のクリーンルームである武田先端知ビルスーパークリーンルームに設定されています。このクリーンルーム環境を活用して、リソグラフィーとエッチングなどの微細加工技術を組み合わせたナノ構造形成が可能です。とくに、シリコン深堀りエッチング装置はマイクロマシン等の複雑な構造形勢に威力を発揮します。
このように、本拠点ではナノ計測とナノ加工が都心のアクセス良好な立地に集約されており、加工と計測のフィードバックループによる 高度なナノテクノロジー研究開発を可能にします。

運営体制
超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点 -運営体制
概念図
世界最高性能機器群をワンストップサービスで提供します。
  • 「超微細加工《と「ナノ計測・分析《の支援の統合環境を提供。
  • ポータルサイトを設置し,ワンストップサービスを提供。
超微細リソグラフィー・ナノ計測拠点-概念図
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